专利名称：清洗组合物及清洗和制造硅片的方法专利类型：发明专利发明人：中川博行
申请号：CN200510079495.2申请日：20050617公开号：CN1721515A公开日：20060118
摘要：一种清洗组合物，包含选自水溶性多糖、聚乙烯醇、聚环氧乙烷、聚环氧丙烷、环氧乙烷和环氧丙烷的共聚物和由在上述共聚物中加入烷基或烯基所获得的亲水聚合物中的至少一种水溶性聚合物。该清洗组合物能够较好的用于清洗抛光后的硅片。
申请人：福吉米株式会社
地址：日本国爱知县
国籍：JP
代理机构：上海市华诚律师事务所
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