专利名称：一种顶栅型薄膜晶体管的制作方法及顶栅型薄膜晶
体管
专利类型：发明专利发明人：宋利旺
申请号：CN201710592932.3申请日：20170719公开号：CN107464836A公开日：20171212
摘要：本发明提供一种顶栅型薄膜晶体管的制作方法及顶栅型薄膜晶体管，通过形成第一光阻图案，该第一光阻图案包括第一遮挡部以及第二遮挡部，并以该第一光阻图案作为罩幕对栅极金属层进行蚀刻，从而使得栅极图形与导电沟道的沟道区尺寸吻合，提高栅极对导电沟道的控制力，进而提高器件的性能。
申请人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
地址：518132 广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
国籍：CN
代理机构：深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)
代理人：黄威
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