专利名称：全息成像方法及用于全息成像方法的二维X射线多
层膜波导结构
专利类型：发明专利发明人：钟奇,谢雨江,梁玉申请号：CN201911308084.4申请日：20191218公开号：CN110989317A公开日：20200410
摘要：本发明涉及全息成像技术领域，具体来说是一种全息成像方法及用于全息成像方法的二维X射线多层膜波导结构，将两个长度相同的一维X射线多层膜波导结构正交胶合，使两个一维X射线多层膜波导结构的间隙部分正交配合，以形成二维X射线多层膜波导结构并用于全息成像。本发明同现有技术相比，通过两个同样结构的波导进行组合，调节波导的出射光斑，形成点阵光源；形成的多通道结构，可降低高阶光束对光斑的影响，在近场具有聚焦光斑强度相似，相位差固定、测量方便的优点，能在近场形成相干性强及强度高的二级X射线光源；在远场，又具有条纹清晰、对比度明显的图像，适用于对光斑分辨率和波导透射率要求均很高的二维X射线全息成像系统。
申请人：上海米蜂激光科技有限公司
地址：201306 上海市浦东新区泥城镇飞渡路55号3幢厂房A、B单元
国籍：CN
代理机构：上海三方专利事务所(普通合伙)
代理人：吴玮
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