专利名称:建筑结构缝构造专利类型:发明专利
发明人:郭建祥,周健,杨学鲁,高扬申请号:CN201910589829.2申请日:20190702公开号:CN110241934A公开日:20190917
摘要:本发明属于建筑工程领域的一种建筑结构缝构造,技术方案为:一种建筑结构缝构造,包括结构缝,及位于结构缝两侧的第一土建构件和第二土建构件,结构缝上端设有结构缝盖板,结构缝由上垂直段、水平过度段和下垂直段组成,上垂直段和下垂直段错开,水平过度段分别连接上垂直段和下垂直段,上垂直段的高度小于或等于0.7米。其保障了当结构缝盖板破坏时,结构缝周边的人员生命财产安全。
申请人:华东建筑设计研究院有限公司
地址:200002 上海市黄浦区汉口路151号
国籍:CN
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