基板曝光装置[发明专利]

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专利名称：基板曝光装置专利类型：发明专利发明人：福井隆史

申请号：CN200410007805.5申请日：20040302公开号：CN1532633A公开日：20040929

摘要：本发明涉及一种基板曝光装置。抑制装置成本的增大，提高基板曝光的处理效率。用通过测定头移动部(40)的驱动而移动到了基板测定位置(Qa)上的测定头(20)，对由基板输送部(10A)输送到了被测定位置(Pa)上的基板(K1)进行测定，同时用通过曝光头移动部(50)的驱动而移动到了基板曝光位置(Sb)上的曝光头(30)，对由基板输送部(10B)输送到了被曝光位置(Rb)上的基板(K2)进行曝光。然后，用通过曝光头移动部(50)的驱动而移动到了基板曝光位置(Ss)上的曝光头(30)，对由基板输送部(10A)输送到了被曝光位置(Ra)上的基板(K1)进行曝光。

申请人：富士胶片株式会社

地址：日本神奈川县

国籍：JP

代理机构：中科专利商标代理有限责任公司

代理人：李香兰

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