专利名称：一种复合电极及其制备方法、阵列基板和显示装置专利类型：发明专利发明人：杨久霞,白峰,刘建涛申请号：CN201410601174.3申请日：20141030公开号：CN104282736A公开日：20150114
摘要：本发明的实施例提供一种复合电极及其制备方法、阵列基板和显示装置，涉及显示技术领域，可提高电极的载流子传输速率，从而降低电极的方阻。所述复合电极包括至少一层石墨烯层和至少一层掺杂层，且相邻两层不同为所述掺杂层；其中，所述掺杂层为氯化铝层或者碘化锌层。用于显示装置的制造。
申请人：京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京中博世达专利商标代理有限公司
代理人：申健
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