一种新型双层配水无中空喷溅装置[实用新型专利]

来源：小奈知识网

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种新型双层配水无中空喷溅装置专利类型：实用新型专利发明人：李燕勇

申请号：CN201620270492.0申请日：20160331公开号：CN2003576U公开日：20160727

摘要：本实用新型公开了一种新型双层配水无中空喷溅装置,包括喷咀、位于喷咀下方的上溅水盘、连接喷咀和上溅水盘的第一支架，其特征在于：上溅水盘上表面设有向上凸出的第一叶片组，上溅水盘下表面设有向下凸出的第二叶片组，上溅水盘中间设有上下贯通的导流通道，上溅水盘正下方通第二支架连接有直径小于上溅水盘的下溅水盘，下溅水盘上表面设置有第三叶片组。本实用新型相比现有技术具有以下优点：采用双层溅水盘设计，其上溅水盘上表面的第一叶片组形成离心式喷溅，下溅水盘上的第三叶片组与上溅水盘下表面的第二叶片组共同形成反射式喷溅，集合了离心式喷溅和反射式喷溅的优点，消除了布水中空的缺陷。

申请人：安徽泰达尔能源科技有限公司

地址：230035 安徽省合肥江西路松芝万象城A座1027室

国籍：CN

代理机构：安徽省合肥新安专利代理有限责任公司

代理人：何梅生

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