专利名称：分离膜专利类型：发明专利
发明人：山下祐树,田中健太郎,三原崇晃,堀口智之申请号：CN201980035586.6申请日：20190529公开号：CN112218705A公开日：20210112
摘要：针对具有致密碳层分离层的分离膜，本发明的目的在于稳定保持高分离性能。本发明是一种分离膜，具有由致密碳层形成的分离层，致密碳层表面上附着有粒子，在致密层碳层上有凹部，所述粒子的至少一部分进入到该凹部。
申请人：东丽株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京市中咨律师事务所
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